첨가제 제조에 의해 내장 된 NI 기반 초합금의 뜨거운 균열 및 크리프 특성에 대한 이트륨의 효과 (2)

출시일:2021-06-28

1. 

하스텔로이

X 합금의 정확한 화학적 화학 조성 (질량 %) 0 및 0.12 이트륨과 각각 hx 및 hx이라고합니다. 표 1에 나와 있습니다.이 두 표본은 EOS M290 SLM 기계 (EOS, Robert-stirling-ring 1, 82152, Krailling, Bavaria, Germany)를 사용하여 45 × 45 × 45mm 큐브의 모양으로 만들어졌습니다. Pre-alloyed 분말 및 동일한 처리 매개 변수를 사용하는 보호 AR 분위기. 우리는 HX와 HX-A 표본 모두에 대한 표준 열처리를 수행했습니다. 용액 열처리 (ST)를 1177 ℃에서 2 시간 동안 수행 한 후 실온--

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-/#for에 공기 냉각시킨 테스트, 우리는 두께 3.1mm 인 많은 슬래브로 큐브; 이 슬래브에서 크리프 테스트 표본은 일렉트로+Discharge 와이어 커팅 머신을 사용하여 잘라 냈습니다. 각 시편의 게이지 크기는 19.6 × 2.8 × 3.0mm였습니다. 우리는 900 ° C-80 MPa 조건에서 크리프 테스트를 수행했습니다. 표본은 SIC 에머리지 최대 1200-까지의 SIC Emery Paper를 사용하여 콜로이드 (Ballerup, Denmark) 자동 연마 기계를 사용하여 콜로이드 실리카 (0.5 μm)까지 다이아몬드 페이스트가 뒤 따른다. 모든 시험편을 10 분 동안 초음파 욕조에서 에탄올로 세척 하였다. 우리는 20 % 인산 산-80 % 수분 용액으로 시험편을 에칭하여 용융 풀 경계를 관찰합니다. 미세 구조 관찰은 광학 현미경 (OM; Olympus Corp. Tokyo, Japan), 스캐닝 전자 현미경 (SEM; 히타치, 주식 회사, 도쿄, 일본), ENERGY-DISPERSIVE Spectroscopy (EDS) (S-3700N 유형 EDS)을 사용하여 수행 하였다 Horiba Seisakusho Co., Ltd., 교토, 일본에서 제조 된 장비 및 현장 배출 전자 현미경 (FeSEM) (Edaxametex 9424)에 첨부 된 현장 배출 전자 현미경 (JSM

7100, 제올, 도쿄, 일본). 이미지 j 소프트웨어 (64

bit Java 1.8.0_172)를 사용하여 균열 분획 및 다공성 측정을 분석했습니다. 

 

 3.1.

 3.1.1.-

bult specimens--figure 1 hot hox와 hx-A 표본의 AS-built 상태의 광학 미세 구조. 모두 동일한 처리 매개 변수를 사용하여 제조되었습니다. HX-A 표본은 HXA 표본이 HX 표본이 결여 된 추가 이트륨 (Y) 합금 원소를 포함 하였기 때문에 HX (그림 1A)보다 더 많은 균열을 나타냈다. 주목할만한 점은 모든 균열이 건물 방향 (BD)과 평행하다는 것입니다 (그림 1B). HX 및 HX

A 표본의 균열 분획은 각각 1 % 및 5 %입니다.

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 44.png쇼의 SEM 현미경 사진built 표본으로. 낮은 배율에서 모든 표본은 곡물 경계와 수상 돌기와 같은 용융 풀 경계와 응고 구조 (그림 2A, B 용 B 및 Hx

A 용 D에 대한 D)를 보였다. 그림 2b는 HX 표본에서 더 높은 배율에서 균열을 보여줍니다. 두 표본에서 균열은 입계 경계를 따라 형성되어 있으며 중간 방수 영역에 나타났습니다.

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우리는 eDS 매핑 Hx 및 hx표본의 균열에서 스캔을 수행합니다. EDS 분석은 HX 표본에서 SIC 탄화물 및 W6C 형성을 나타 냈습니다 (그림 3A). HX A 표본에서 균열에 첨가 된 EDS 매핑은 YC의 형성을 보였다 (그림 3b)55.png

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figure 4는 EDS 매핑을 보여줍니다 곡물 내부의 작은 Y 산화물 (YTTRIA) 및 SI 산화물 (실리카) 입자의 존재를 나타내는 HX built 시편의built 표본. AS

built 조건 (그림 5)의 두 표본의 전자 백 산란 회절 (EBSD) 결정 학적지도는 건물 방향에 거의 평행 한 기둥 형성을 나타 냈습니다. HX 표본에서 일부 입자는 방향으로 배향되고 일부는 방향으로 (그림 5A)됩니다. 반면에 Hx

a 시편의 입자는 다소 미세하고 대부분 방향으로 대부분 배향됩니다 (그림 5b)

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